信息來源: 時間:2020-11-24
CMOS是微功耗電路,對功耗的要求特別嚴格。造成功耗大的主要因素是靜態泄漏電流。因此,在工藝和版圖設計時,特別要注意采取適當措施,使漏電盡可能減到最小。CMOS版圖設計概要。圖5-15所示為產生漏電的主要途徑。其中分別表示負載管和輸入管溝道以外的氧化層下面的漏電;
和
分別表示P+源(或P+漏)與P-阱,N+源(或N+漏)與N-襯底之間寄生MOS管漏電。
要消除寄生漏電,必須在版圖設計時采用隔離環,以中斷寄生溝道。圖5-16所示是用與襯底同類型的擴散環包圍有源器件。在P-阱區擴散P+隔離環,以截斷寄生的N型溝道,在N-襯底上擴散N+隔離環,以截斷P型寄生溝道。
從圖中可以看到,在兩個N+和P+隔離環之間的區域是不會發生寄生的泄漏溝道的。所以這些區域是互連線的安全區。CMOS版圖設計概要。因為要在高濃度擴散環上引起寄生的反型層,需要很高的電壓,而實際電路的電源電壓要比場致開啟電壓低得多,從而消除了寄生漏電的途徑。
CMOS通常有六塊掩膜圖形:即①P阱擴散區圖形;②P溝道MOS管原漏及P+隔離環擴散區圖形;③N溝道MOS管源漏及N+隔離環擴散區圖形;④柵和引線圖形;⑤接觸孔(引線孔)圖形;⑥金屬電極圖形。
根據原四機部關于CMOS電路聯合設計會議規定,目前CMOS電路的總圖所采用的符號如圖5-17所示。
版圖設計中的最小尺寸與工藝水平有關。下列版圖尺寸,并不代表當前工藝水平,只供讀者參考。
小規模電路(單位:μm)
(a)溝道長10;(b)柵覆蓋(每邊)5;(c)擴散區條寬12.5;(d)擴散區間距12.5;(e)P阱與N隔離環間距20;(f)引線孔距擴散區邊緣7.5;(g)鋁覆蓋引線孔5,引線孔10×12.5;(h)預刻引線孔每邊比孔大2.5;(i)鋁條寬12.5;(j)鋁條間距12.5,鍵合點120×120,鍵合點間距120;(k)鍵合點至管芯邊間距100;(l)鈍化版比鋁鍵合點每邊小7.5,芯片分割線至管芯間距300。
小規模電路一般可用500倍比例繪制原圖。CMOS版圖設計概要。中規模電路可用800倍比例或400倍比例繪制原圖。中規模電路的最小尺寸比小規模電路略有縮小,如:為道長8~10;擴散區寬8~10;引線孔距擴散區邊緣5,鋁覆蓋引線孔2.5~3,引線孔8×12。
上列各種基本尺寸及繪圖符號在圖5-18中標明。
根據計算得到的器件尺寸及圖形標記和繪圖尺寸規定,就可以繪制各器件的配置圖。
圖5-19為二輸入端“或非”門配置圖的實例。這樣的配置圖,器件排列比較規則,布線比較整齊,充分利用了晶片面積。
圖5-20為CMOS傳輸門的配置圖。圖中把CMOS傳輸門的N管和CMOS倒相器的N管放在一個P-阱內,可以節省晶片面積。
CMOS電路與單溝道電路一樣,在輸入端也必須加保護電路,因此在圖形設計時必須加以考慮。CMOS電路常用的保護電路一般有兩種形式。
這種保護電路的二極管聯接方法有兩種形式,一是把二極管接在輸入端與地之間,如圖5-21所示;另一種是把二極管接在輸入端與電源之間,如圖5-22所示。
圖5-23為電阻二極管保護電路的形式,在圖中,D1為N+型擴散在P阱上形成的二極管,擊穿電壓為P+型擴散在襯底上形成的二極管,擊穿電壓
為保護電阻,是P型擴散在N型村底上形成的擴散電阻,這個電阻本身也形成二極管D2,所以不必單獨制作,R的數值在500~1000Ω之間。
CMOS電路總圖繪制的步驟及其它一些原則,與單溝道MOS電路類同,這里不再細述。
聯系方式:鄒先生
聯系電話:0755-83888366-8022
手機:18123972950
QQ:2880195519
聯系地址:深圳市福田區車公廟天安數碼城天吉大廈CD座5C1
請搜微信公眾號:“KIA半導體”或掃一掃下圖“關注”官方微信公眾號
請“關注”官方微信公眾號:提供 MOS管 技術幫助